OXCAD
Fonctionnalités générales du logiciel
Ce logiciel est dédié à la simulation, à l’échelle atomique et par Monte Carlo Cinétique, de l’oxydation du silicium. Le logiciel a vocation à représenter la structure des couches fines d’oxyde, ainsi que leurs vitesses de dépôt.
Il nécessite, comme paramètres d’entrée, les diverses enthalpies des diverses réactions possibles, ainsi que les barrières d’activation associées. Une bibliothèque de réactions est déjà implémentée dans le logiciel.
Trois versions du logiciel sont actuellement disponibles :
- OXCAD, qui simule l’oxydation de plusieurs couches atomiques (de l’ordre d’une dizaine),
- SOXCAD, qui s’intéresse particulièrement à l’oxydation de la surface du silicium
- MOXCAD, version simplifiée d’OXCAD, à une échelle mésoscopique.